催化事件：工信部官方文件披露國(guó)產(chǎn)ArF光刻機(jī)進(jìn)入推廣應(yīng)用階段。
9月9日，工信部公布《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》，其中集成電路生產(chǎn)裝備章節(jié)列示了氟化氪(KrF)光刻機(jī)、氟化氬(ArF)光刻機(jī)兩項(xiàng)，意味著國(guó)產(chǎn)KrF、ArF光刻機(jī)已完成首臺(tái)生產(chǎn)、進(jìn)入推廣應(yīng)用階段。
一、國(guó)產(chǎn)ArF光刻機(jī)對(duì)應(yīng)制程≤65nm，干式DUV光刻機(jī)
根據(jù)工信部文件所示的核心技術(shù)指標(biāo)，該ArF光刻機(jī)分辨率≤65nm，即對(duì)應(yīng)單次曝光關(guān)鍵尺寸≤65nm(通俗稱(chēng)即為制程≤65nm)，預(yù)計(jì)為數(shù)值孔徑(NA)相對(duì)較低的干式ArF光刻機(jī)。
2018年3月上海微電子的干式ArF光刻機(jī)SSA600通過(guò)驗(yàn)收，SSA600最高可滿足12寸線90nm光刻工藝需求，工信部列示的 ArF光刻機(jī)與SSA600均為干式+ArF光源，但制程更先進(jìn)，預(yù)計(jì)因數(shù)值孔徑有所增加、但仍有較大提升空間。
二、列示ArF光刻機(jī)套刻精度≤8nm，尚有提升空間
根據(jù)工信部文件所示的核心技術(shù)指標(biāo)，該ArF光刻機(jī)套刻精度≤8nm，作為對(duì)標(biāo)，當(dāng)前ASML生產(chǎn)的干式ArF光刻機(jī)主力機(jī)型NXT:1470，其分辨率≤57nm、套刻精度≤4.5nm。
套刻精度即多次光刻的圖案層之間的對(duì)齊精度，多重曝光工藝對(duì)套刻精度的要求更高，預(yù)計(jì)工信部列示的ArF光刻機(jī)尚需提升套刻精度才能滿足多重曝光工藝。
三、國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)及光刻工藝技術(shù)持續(xù)進(jìn)展，信息部分公開(kāi)提振市場(chǎng)信心
此前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)相關(guān)公開(kāi)信息較少，保密程度高，而2024年以來(lái)，3月22日華為公開(kāi)四重曝光工藝技術(shù)改進(jìn)優(yōu)化的專(zhuān)利，6月20日工信部發(fā)布《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》公示稿(后于9月9日正式發(fā)布)，9月10日上海微電子公開(kāi)“極紫外輻射發(fā)生裝置及光刻設(shè)備”的專(zhuān)利，國(guó)內(nèi)光刻設(shè)備及曝光工藝公開(kāi)信息增多，有助于提振市場(chǎng)信心。
四、指導(dǎo)目錄亦列示涂膠顯影、CMP、量測(cè)等半導(dǎo)體設(shè)備
工信部在推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄中，列舉了涂膠顯影機(jī)(工藝節(jié)點(diǎn)等于或優(yōu)于28nm)、化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)(工藝節(jié)點(diǎn)等于或優(yōu)于14nm)、光學(xué)線寬量測(cè)裝備等，其余亦包含濕法清洗、氧化爐、離子注入等環(huán)節(jié)裝備，當(dāng)前國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備多領(lǐng)域處于研發(fā)突破關(guān)鍵階段，短板領(lǐng)域未來(lái)有望加速補(bǔ)齊，助力先進(jìn)制程產(chǎn)線國(guó)產(chǎn)化率進(jìn)一步提升。
五、投資分析意見(jiàn)：
官方披露核心設(shè)備進(jìn)展提振市場(chǎng)信心，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)芤�，�?guó)內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)自主可控可期，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備整體受益。
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)相關(guān)標(biāo)的:茂萊光學(xué)，波長(zhǎng)光電，炬光科技，福晶科技;
半導(dǎo)體設(shè)備公司:中微不司(刻蝕、薄膜沉積等)，北方華創(chuàng)(薄膜沉積、刻蝕、清洗設(shè)備、氧化爐等)，中科飛測(cè)、精測(cè)電子(前道檢測(cè)量測(cè)設(shè)備)，拓荊科技(薄膜沉積、鍵合設(shè)備等)，芯源微(涂膠顯影、清洗設(shè)備等)。
栗智（執(zhí)業(yè)編號(hào)：A0380623120005）簡(jiǎn)介：
頂點(diǎn)財(cái)經(jīng)首席投顧，廈門(mén)大學(xué)管理學(xué)學(xué)士，擁有十余年投資經(jīng)驗(yàn)，獨(dú)創(chuàng)《智富尋龍術(shù)》，以“資金觀天象，邏輯尋龍脈，量?jī)r(jià)定龍頭”的尋龍?jiān)E，從容把握成長(zhǎng)型黑龍、題材型白龍和情緒型紅龍的騰飛機(jī)遇。
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